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Cybersécurité : des puces marquées individuellement par lithographie électronique


​Une nouvelle machine de lithographie électronique multifaisceaux* sans masque permet de graver individuellement et de façon massivement parallèle des codes uniques sur les milliers de puces d’un même wafer. Grâce à elle, le débit de marquage de puces devient compatible avec les exigences industrielles.

Publié le 22 mai 2018

​Une machine* permettant de graver individuellement des codes de sécurité uniques sur un niveau de connexion métallique intermédiaire d'une puce électronique pendant sa fabrication, a été présentée à la conférence SPIE Advanced Lithography 2018**. Cette plateforme est développée par la société Mapper Lithography BV, fabricant néerlandais d'équipements, conjointement avec le Leti. Cet équipement prototype de lithographie sans masque (multifaisceaux d'électrons) répond aux exigences technologiques standard CMOS 40 nm et peut également être adapté à d'autres technologies (jusqu'au 28 nm), sur des wafers de 200 ou 300 mm.

Contrairement aux outils d'exposition optique standard (scanners optiques avec masques) qui répètent le même motif sur l'ensemble de la plaque, ce système de lithographie sans masque permet le marquage individuel des puces. Il met en œuvre une procédure d'écriture directe rapide utilisant 49*1362 faisceaux électroniques simultanément. De cette façon, il est possible de pré-définir autant de codes différents que nécessaire, pour un débit de production attractif.

Grâce à cette innovation, le marquage par lithographie électronique devient une option industrielle intéressante pour les secteurs de la cybersécurité, de la traçabilité et de la prévention de la contrefaçon. Plusieurs industriels désireux de tester cette solution d'encryptage sur leurs wafers se sont déjà manifestés.

 

* MAPPER FLX-1200

** Proc. SPIE 10584, 1058411 (2018)

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